第353章 林教授错了？让他错个高兴！

在林决的林氏函子光学变式得到验证后，在国家机器强大的调度下。

如今。

水木最新一代的镀膜材料，光学测试装备已经上机。

除此之外，在林决的建议下。

EUV反射响应测量台，以及皮米级压电促动器驱动阵列也让了相应优化。

这个过程其实有件有意思的事情。

在光机所内部。。。。。

以往要让成改机，优化的事项。

程序是那是相当很繁琐的。

比如，林决要将EUV反射响应测量台函子输入端，从原来的“单模”改成“双模合一”的方案。

要是放在以前，这个方案推进，少说也得要一两个月。

各个部门要评审，然后再提交给装备组，最后还要写什么可行性论证的文件，再接着是联签会议。

如果有专家这时侯站出来反对，又得吵上两轮。

就算最后通过，采购还得扯皮。

就算最后通过，采购还得扯皮。

这个过程虽然繁琐。

但按照实际情况来说，却是完全有必要的！！！

毕竟光刻机这种大型项目，某个环节出了问题，有时侯损失的可不仅是时间。

在资金，人力物力的各种损耗，那也都是天文数字！

然而。。。。。

现在情况有了变化。

EUV

反射镜多层膜的原位相位非均匀性误差测试结束后。

上头各个部门的反应，那叫一个积极。。。。。。

不到五天时间。

反射响应台和驱动阵列，便在工程师们24小时接力下，完成了改进！！！

什么？

林教授要改东西？

文件给我拿来吧你！

我只管签字就完事儿咯！